En teoría, el agua ultrapura se refiere a agua que tiene una resistividad superior a 18 MΩ*cm (25 掳C) o cercana a 18,3 MΩ*cm (25 掳C). Además de las moléculas de agua, esta agua casi no tiene impurezas y no contiene sustancias orgánicas como bacterias, virus y dioxinas que contengan cloro.

El agua ultrapura se utiliza principalmente para desarrollar materiales ultrapuros, como materiales originales semiconductores, materiales cerámicos nanofinos y agua para la industria de la energía nuclear.

Es difícil conseguir tal agua en el proceso general. En teoría, se puede tratar mediante ósmosis inversa de dos etapas y luego mediante una serie de pulido con resina de intercambio mixto.

El agua ultrapura se utiliza actualmente principalmente en la industria de los semiconductores y la industria nuclear.

En la industria electrónica, desde la limpieza de diversos componentes electrónicos hasta la preparación de una serie de soluciones de proceso, se necesita agua pura de alta calidad, especialmente para la producción de dispositivos semiconductores y circuitos integrados a gran escala. El agua ultrapura se utiliza en casi todos los procesos de limpieza con agua. El agua ultrapura preparada con resina de grado electrónico requiere básicamente una resistencia de 15 MΩ*cm (25 掳C) o más.

El tratamiento del agua de las centrales nucleares es completamente diferente al de las centrales eléctricas ordinarias. En los circuitos de las centrales nucleares, y en entornos donde es necesario eliminar toda actividad, es absolutamente imprescindible que la resina utilizada no libere iones ni sustancias que puedan provocar precipitaciones y corrosión. Por lo tanto, la resina de grado nuclear debe tener una estabilidad extremadamente alta, debe alcanzar un nivel muy alto de regeneración y debe tener una pureza muy alta.

El agua ultrapura preparada con resina de grado nuclear requiere básicamente una resistencia de 18 MΩ*cm (25 掳C) o más.