SEPLITA ®Monojet ™Resina de pulido de partículas uniformes, calidad ultrapura
En la producción de componentes electrónicos, circuitos integrados, chips y otras industrias electrónicas, casi todos los procesos requieren agua pura para la limpieza, y la pieza de trabajo está en contacto directo con ella. Por un lado, permite eliminar las manchas durante el proceso, y por otro, es necesario evitar que las impurezas del agua generen contaminación secundaria en la pieza. El concepto de "agua ultrapura de grado electrónico" se ha convertido en uno de los más importantes de la industria electrónica.
Proceso tecnológico tradicional para la preparación de agua ultrapura de grado electrónico:
En el proceso de preparación y pulido de agua ultrapura,
resinas de pulido de alta calidad
Para purificar el agua se requiere una mayor precisión de procesamiento, un mayor nivel de pureza y un tamaño de partícula uniforme. Sunresin ha desarrollado la tecnología de granulación por chorro y utiliza la línea de producción de resina líder a nivel mundial para producir resinas de alta pureza y alta transformación.
resina de intercambio catiónico de tipo H de grano uniforme
y
resina de intercambio aniónico de tipo OH
Con un coeficiente de uniformidad
Comparación entre el proceso de granulación por chorro y el proceso tradicional:
Tipo de resina pulida refinada de Sunresin e indicadores de entrada y salida de agua:
| Producto | Especificaciones del agua de entrada | Especificaciones del agua de salida |
|---|---|---|
| Seplita ® Monojet MB615U | Resistividad eléctrica
16M y CM | Resistividad eléctrica
18,1 millones de pies cuadrados |
| TOC - 20 ppb | TOC - 2 ppb | |
| Si�5ppb | Si�1ppb | |
| Seplita ® Monojet MB610U | Resistividad eléctrica
17M y CM | Resistividad eléctrica
18,2 millones de pies cuadrados |
| TOC - 15 ppb | TOC - 2 ppb | |
| Si�2ppb | Si�0,5 ppb |
Ventajas de la resina de pulido refinada de Sunresin:
1. Gracias a una mejor dinámica de fluidos, el sistema opera con menor caída de presión. La resina de pulido de Sunresin utiliza resinas de gel aniónicas y catiónicas con un tamaño de partícula uniforme, con un coeficiente de uniformidad inferior a 1,1. Durante el llenado, evita que se llenen los huecos con pequeñas partículas de resina, aumenta el espacio efectivo y reduce significativamente la resistencia al fluido.
2. Mayor velocidad de intercambio y capacidad de intercambio de trabajo. En las mismas condiciones de procesamiento, la resina de partículas uniformes puede proporcionar una mayor superficie de resina y una ruta de difusión iónica mínima, lo que mejora significativamente la velocidad de intercambio de resina y la capacidad de intercambio de trabajo.
3. Mejor resistencia mecánica y menor pérdida de resina por aplastamiento durante el funcionamiento.
4. Mayor pureza y contenido de iones de impurezas extremadamente bajo.
5. Tasa de conversión de tipo H / tipo OH muy alta, tasa de tipo H > 99%, tasa de tipo OH > 96%.
6. Ciclo de suministro corto, satisface mejor las necesidades del cliente.
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